Aprašymas

Dėl kainų ir kitos informacijos rašykite info@visum.lt nurodydami matmenis. 

U formos liktinis klojinys – du viename sprendinys formuojant rostverką. Naudojant šį produktą gaunamas tikslių matmenų klojinys betonui, kuris atlieka ir termoizoliacinę funkciją naujajam rostverkui.

Pagrindinė liktinių klojinių paskirtis – apšiltinti rostverką ne tik iš šonų, bet ir iš apačios, bei sutrumpinti statybų trukmę. Šie tikslai pasiekiami, nes nereikia suformuoto rostverko papildomai apšiltinti nuardžius klojinį. Darbas atliekamas daug greičiau, nereikia nuomoti ar įrenginėti klojinių bei statybų pabaigoje jų tvarkyti ar valyti ir grąžinti.

BEWI liktinių klojinių sistema turi specialius griovelius pagrindo plokštėje, į kuriuos įstatomos šoninės klojinio plokštės. Taip pasiekiamas ypač tikslių matmenų rostverko pamatas.

Montavimo instrukcijos

• Po pamatų duobės įrengimo paruošiamas pagrindas jį išlyginant iki reikalingos altitudės ir, pagal poreikį, sutankinant.
• Liktinio klojinio montavimas pradedamas nuo pastato kampo, panaudojant vieną iš BalPol kampinių detalių.
• Pagrindo detalėje išpjaunama anga polinio pamato armatūros strypams prakišti.
• Toliau pagrindo plokštės ir kampai sudedami įrengiamo rostverko perimetru išpjaunant skyles polio armatūrai.
• Sumontuojama rostverko armatūra ją surišant su polių armatūra.
• Įrengus rostverko armatūrą pradedami šoninių plokščių montavimo darbai:
  • Šoninių plokščių montavimas pradedamas nuo rostverko kampo.
  • Visi sujungimai turi būti papildomai klijuojami poliuretaniniais klijais.
  • Plokštės išdėstomos taip, kad jų siūlės nesutaptų su pagrindo plokščių ar kampų siūlėmis.
• Sumontuotos plokštės suveržiamos tarpusavyje ilgasriegių sistema:
  • Tarp plokščių dedamas plastikinis betonavimo vamzdelis.
  • Perimetru iš klojinio išorės uždedamos lentos.
  • Lentos ir ilgasriegiai įrengiami kas 0,8 m, 20 cm nuo klojinio viršaus.
• Rekomenduojama klojinį įtvirtinti mediniais kuoliukais kas ~1 m bei sutvirtinti kampus, kad būtų išvengiama galimo pajudėjimo betonavimo metu.